半导体加工工艺流程 半导体镀金工艺流程
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2023-09-11
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1)闭合清洗剂液槽,恒温后确认清洗剂液槽液温为60±5℃
2)闭合本镀金槽加热器电源,给响应药液升温确认本镀液槽液温为60~65℃闭合电镀用电源
3)将待镀金硅叠装上专用夹具
4)脱脂:确认清洗剂液槽液温为60±5℃,将夹具置于清洗剂中浸泡5±1min
5)水洗:将夹具在纯水槽中冲刷25s,并用手不竭上下摆动夹具
6)酸洗:将夹具在盐酸槽中浸泡60±5s
7)水洗:将夹具置于纯水槽中冲刷25s
8)预镀:将夹具置于预镀液槽中,电镀25s节制电镀电源电压为3.35±0.01v
9)本镀:确认本镀液槽液温为60~65℃,将夹具置于本镀槽中,本镀2.0±0.5min,调剂电镀电源电流为0.6±0.1a,电镀电压不定
10)后处置:将夹具顺次转入两级水洗槽中,每级水槽各清洗25s
11)脱水干燥:将夹具转入甲醇槽,浸泡60s然后置于红外线烘箱中,干燥5min。
本文到此竣事,但愿对年夜家有所帮忙。